Kas ir virsmas mikroapstrāde?

Shēmas daļas, kas izgatavotas, izmantojot šo metodi, sākotnēji tika izmantotas akselerometros, kas avārijas brīdī transportlīdzekļos atvēra gaisa spilvenus. Virsmas mikromehāniski apstrādāti sensori transportlīdzekļos arī nodrošina aizsardzību pret apgāšanos, izmantojot slīpuma vadību, un tiek izmantoti bremžu pretbloķēšanas sistēmās. Šī shēma tiek izmantota arī augstas veiktspējas žiroskopos vadības kontroles sistēmās un navigācijas sistēmās. Tā kā shēmas, kas ražotas, izmantojot šo metodi, rada niecīgas un precīzas shēmas, ir iespējams apvienot vairākas funkcijas vienā mikroshēmā, lai izmantotu kustības, plūsmas sensoru un dažās plaša patēriņa elektronikas ierīcēs. Fotogrāfijā, filmējot ar videokameru, šie čipi dod attēla stabilizāciju kustības laikā.

Virsmas mikroapstrādes procesā kā pamats, uz kura tiek veidoti slāņi, tiek izmantoti kristāla silīcija mikroshēmu substrāti, vai arī to var sākt uz lētākiem stikla vai plastmasas pamatnēm. Parasti pirmais slānis ir silīcija oksīds, izolators, kas ir iegravēts vēlamajā biezumā. Virs šī slāņa tiek uzklāts gaismjutīgas plēves slānis, un caur ķēdes modeļa pārklājumu tiek uzklāta ultravioletā (UV) gaisma. Pēc tam šī vafele tiek izstrādāta, izskalota un cepta sekojošam kodināšanas procesam. Šo procesu atkārto vairākas reizes, lai uzklātu vairāk slāņu, rūpīgi uzraugot un katram slānim piemērojot precīzas kodināšanas metodes, lai izveidotu galīgo slāņaino mikroshēmu dizainu.

Faktiskais virsmas mikroapstrādes kodināšanas process tiek veikts ar vienu vai vairāku apstrādes procesu kombināciju. Slapjā kodināšana tiek veikta, izmantojot fluorūdeņražskābi, lai uz slāņiem kodinātu ķēdes dizainus, izgriežot neaizsargātus izolācijas materiālus; Pēc tam šī slāņa neiegravētās vietas tiek elektrolizētas, lai izolētu slāni no nākamā uzklātā slāņa. Sauso kodināšanu var veikt atsevišķi vai kombinācijā ar ķīmisko kodināšanu, izmantojot jonizētu gāzi, lai bombardētu kodināmās vietas. Ražotāji izmanto sauso plazmas kodināšanu, ja liela slāņa daļa ir jāiegravē ķēdes dizainā. Turklāt cita hlora plazmas kombinācija ar fluora gāzi var radīt dziļus vertikālus griezumus slāņa plēves maskēšanas materiālos, kā tas bieži ir nepieciešams, ražojot mikropadeves sensoru mikroshēmas.